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              桌面式模塊化真空鍍膜技術(PVD)

              • 磁控濺射靶槍
              磁控濺射靶槍

              磁控濺射靶槍

              • 2 英寸
              • 直流/射頻兼容
              • 產品描述:磁控濺射靶槍,磁控濺射源,濺射靶槍,Sputter Gun
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              磁控濺射靶槍

              可集成于Korvus HEX 和HEX-L系統中。


              主要指標:

              1.  靶材尺寸:2英寸

              2.  靶材厚度:0.5-6 mm,1 mm(磁性材料)

              3.  可兼容直流電源,射頻電源,脈沖直流電源,高功率脈沖電源

              4.  設計有水冷管道

              5.  靶材利用率高達40%


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