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            桌面式模塊化真空鍍膜技術(PVD)

            • Mini電子束蒸發源
            • Mini電子束蒸發源
            Mini電子束蒸發源Mini電子束蒸發源

            Mini電子束蒸發源

            • 單口/四口
            • 坩堝/材料棒兩種工作模式
            • 產品描述:Mini電子束蒸發源,E-beam Evaporation
            • 在線訂購

            Mini電子束蒸發源

            可集成于Korvus HEX 和HEX-L系統中。


            主要指標:

            1.  蒸發口數量:1 / 4

            2.  材料棒,坩堝尺寸:2-4 mm直徑,長度27 mm,最大1 cc坩堝

            3.  250 W/500 W供電電源,多通道控制,可共蒸發

            4.  適用于超薄薄膜制備,10 nm到單原子層。

            5.  靶材利用率高


            若需要E型電子束蒸發源,請參考MBE電子束蒸發源。

            如有設備需求,歡迎隨時聯系我們。

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