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    反射式高能電子衍射(RHEED)

    • 反射式高能電子衍射儀(RHEED)
    • 反射式高能電子衍射儀(RHEED)
    反射式高能電子衍射儀(RHEED)反射式高能電子衍射儀(RHEED)

    反射式高能電子衍射儀(RHEED)

    • RHEED
    • 產品描述:反射式高能電子衍射(Reflection High-Energy Electron Diffraction,簡稱RHEED)是高能電子衍射的一種工作模式。它將能量為10~50keV的單電子束掠入射 (1°~3°)到晶體表面,其反射束帶有晶體表面信息,并呈現于熒光屏。
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    STAIB INSTRUMENTS是世界領先的高性能表面分析儀器供應商之一,我們的反射式高能電子衍射儀(RHEED)和差分式反射式高能電子衍射儀(TorrRHEED)被廣泛應用于各種薄膜生長原位監控,世界各大真空鍍膜設備制造商均采用我們的產品,如德國Omicron,法國Riber,荷蘭TSST等等,得到了國內外各大企業以及科研院所的一致認可!

    反射式高能電子衍射得到廣泛運用是與分子束外延(MBE)技術發展有關。它可用于原位觀察外延薄膜生長情況,為改進生長條件提供依據。反射高能衍射具有較高的表面靈敏度(10~40埃),但它不僅限于作單晶表面結構分析,也可用于多晶、孿晶、無定形表面及微粒樣品的表面結構分析。也可用來作物相鑒定、測定晶體取向和原子位置。此外,電子衍射可以用來測定晶體的空間群。


    RHEED特點:

    電子槍能量范圍:10 keV ~60 keV

    工作氣壓范圍:從UHV到1×10-5 mbar

    高性能電子槍:高亮度、小斑點、低分散、極低放氣率

    熒光屏:鍍鋁保護涂層

    遠程控制:實現電子束聚焦、偏轉及電子閘門功能

    電子束偏轉角度:±15°

    選配:一級差分,工作氣壓可達10-3 Torr

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