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            脈沖激光沉積組件

            • 脈沖激光沉積靶臺
            • 脈沖激光沉積靶臺
            脈沖激光沉積靶臺脈沖激光沉積靶臺

            脈沖激光沉積靶臺

            • 自旋式靶臺
            • 掃描式靶臺
            • 產品描述:脈沖激光沉積靶臺,公轉自轉式靶臺
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            自旋式靶臺

            自旋式靶臺通過靶材的自轉來保證灼蝕的均勻性。自轉是由一個直流馬達通過旋轉饋通器來控制的。

            根據不同需求,可選擇幾個靶材單獨自轉或是同時自轉。

            可以通過步進馬達自動選靶,以實現多層膜自動化生長。


            掃描式靶臺

            在掃描式靶臺中,靶材可在水平和垂直方向進行掃描,從而使激光相對掃過靶材表面,但羽輝的位置以及角度相對于基片不發生改變,保證了沉積的穩定性。

            在進行多次連續沉積實驗的時,可以選擇掃描靶材的不同區域。因此,靶材可以長時間使用,而不需要每次沉積后都打磨靶材表面,使靶材的損耗最小化。

            相比于自旋式靶臺,掃描式靶臺可以根據不同的靶材調整掃描范圍,可用于不規則形狀的靶材。

            掃描以及選靶均由電腦自動控制,可用于多層膜自動化生長實驗。

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