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            分子束外延束源爐

            • 耐氧化束源爐-OREZ
            • 耐氧化束源爐-OREZ
            耐氧化束源爐-OREZ耐氧化束源爐-OREZ

            耐氧化束源爐-OREZ

            • 產品型號:OREZ
            • 產品描述:耐氧化束源爐-OREZ滿足高氧氣背底真空的氧化物MBE應用的要求。典型工作氣壓從10^-4 mbar到幾mbar,溫度可加熱到1200℃。 使用貴金屬和鎳基結構材料最大的改善了普通超高真空束源爐抗氧環境。特殊的鎳合金加熱絲和屏蔽部分可是在超高真空中和持續的氧氣氛圍內加熱至1000℃。貴金屬合金加熱絲和屏蔽部分可以加熱至1200℃。
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            耐氧化束源爐-OREZ滿足高氧氣背底真空的氧化物MBE應用的要求。典型工作氣壓從10-4 mbar到幾mbar,溫度可加熱到1200℃。使用貴金屬和鎳基結構材料最大的改善了普通超高真空束源爐抗氧環境。特殊的鎳合金加熱絲和屏蔽部分可是在超高真空中和持續的氧氣氛圍內加熱至1000℃。貴金屬合金加熱絲和屏蔽部分可以加熱至1200℃。典型應用包括:利用表面氧化形成氧化層,在氧氣氛圍內蒸發金屬形成氧化物薄膜,以及直接蒸發氧化物。表面氧化層和氧化物薄膜普遍應用于絕緣材料,如微電子器件。厚的氧化物薄膜常用于探測器和光學器件,由于氧化物具備光學,磁學,電學以及半導體等多方面性能。


            產品特點:

            安裝法蘭:DN40CF/DN63CF

            真空內長度:200~400mm

            加熱燈絲類型:鎳合金(1000℃),貴金屬合金(1200℃),加熱燈絲有標準加熱,熱唇加熱,冷唇加熱,雙燈絲加熱

            熱偶:NiCr/NiAl (K型)

            加熱溫度:200~1200℃

            除氣溫度:1000 / 1200℃

            外部烘烤溫度:250℃

            冷卻方式:集成水冷或者單獨的水冷

            坩堝容量:10/35/60/125 cc

            坩堝材料:PBN/Al2O3/BeO

            選配:擋板


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