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            國內第一臺Octoplus-O 400專業氧化物分子束外延(MBE)系統成功安裝

                  北京埃伯儀器有限公司于2016年4月在北京大學韓偉老師組完成了國內第一臺Octoplus-O 400專業的氧化物分子束外延(MBE)系統安裝,順利完成調試驗收!

                  Octoplus-O 400是一個專業設計的,非常適合于氧化物薄膜沉積的MBE系統。特殊設計的差分抽氣雙氣壓區域系統非常適合加熱源在氧氣以及濃縮或非濃縮的臭氧環境中生長氧化物薄膜。它可以非常容易地調整適用于小的晶片及2英寸標準晶片。豎直分區式腔體設計可以裝配先進的源爐(組件),從而實現精確地一層一層的分子束外延生長


            • 雙氣壓區域設計,強差分抽氣
            • 適合氧氣以及濃縮或非濃縮的臭氧環境中生長氧化物薄膜
            • 耐臭氧的SiC樣品加熱,適用于2英寸標準晶片及以下尺寸的樣品生長




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